主页搜索
搜索
选择时间
搜索范围
全部的
‘技术泄露’新闻 11个
-
知识产权部门推动技术警察扩大调查范围以应对技术泄露知识产权处正在推动对《司法警察管理的职务及其职务范围法》(司法警察职务法)的修订,以扩大技术警察的调查范围,涵盖国家核心技术和国家先进战略技术的泄露犯罪。这一决定是基于检察院的废除可能导致技术泄露调查出现漏洞的判断。 知识产权处于14日表示,将加快对司法警察职务法的修订。目前,知识产权处的技术警察仅能调查专利和商业秘密侵权犯罪,而对违反工业技术保护法或国家先进战略产业法的案件没有直接调查权。 问题在于,这两类犯罪往往在同一事件中同时发生。根据知识产权处的数据,技术警察以起诉意见移送的商业秘密境外泄露案件中,有81.8%的案件同时涉及违反工业技术保护法或国家先进战略产业法的嫌疑。这些嫌疑需要转交给其他调查机构,但根据新修订的刑事诉讼法,知识产权处无法对本月成立的公诉检察官进行补充调查,这可能导致处理延迟或部分嫌疑被遗漏。在此次国政审查中,也有人指出需要完善制度以防止技术泄露调查的空白。 根据工业通商资源部的统计,从2020年到2025年,因海外技术泄露造成的产业损失规模预计达到约23兆2700亿韩元。尤其是包括半导体在内的先进产业技术泄露,对国家经济和安全构成了严重威胁。 知识产权处认为,技术泄露案件从确定搜查范围到证据分析和嫌疑证明都需要技术专业性,因此应由技术警察从调查初期就直接负责。司法政策研究院在去年的研究中指出,对技术的理解不足是技术泄露审判困难的主要原因。国会中已有多项相关修订案被提案。 知识产权处长金勇善表示:“先进技术的泄露不仅对企业造成损害,还严重威胁国家经济、安全和产业竞争力,这是一起重大犯罪。”他强调:“在刑事司法体系改革过程中,必须尽快完善相关法律,以确保技术泄露调查不出现漏洞,并基于技术警察的专业性,迅速有效地应对核心技术泄露犯罪。”※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-10-16 23:00:10 -
K-发现制度可能导致国内技术和商业机密泄露为防止中小企业技术被盗,韩国引入的证据披露制度(K-发现)若扩展至专利法,可能导致国内技术企业的机密泄露至海外。业内人士担忧,海外竞争对手或全球“专利猎人”可能借专利诉讼之机,查看国内企业的内部资料。 根据政府和产业界的消息,K-发现制度的引入是《大中小企业共生合作促进法》(共生合作法)修正案的核心内容,该修正案已于今年1月通过国会。知识产权处也在推动将该制度扩展至一般专利侵权诉讼的专利法修正案。法院指定的专家将能够在诉讼当事人的工厂和办公室调查与侵权相关的资料,这是该制度的关键。 政府认为这是为了救助遭受技术侵害的企业。中小企业即使怀疑技术被盗,也难以获取对方的内部证据。知识产权处提供的专利侵权诉讼原告胜诉率仅为11.1%。 然而,产业界担忧,如果将这一制度扩展至一般专利诉讼,海外竞争对手或全球专利管理公司(NPE)可能会将其作为获取国内企业技术资料的手段。半导体制造过程的条件和设备操作方式是核心信息,仅凭产品难以了解。以确认专利侵权为由,这些资料可能成为调查对象。 实际上,SK海力士今年以来遭到多家美国NPE的高带宽内存(HBM)相关专利诉讼攻击,这种情况在国内发生的可能性也不容忽视。 在国内诉讼过程中披露的资料可能被用于海外诉讼等。半导体行业人士表示:“虽然理解韩国式发现扩展的初衷,但必须具体制定使用限制和违规时的制裁措施,以防调查过程中获得的资料被用于海外诉讼。” 诉讼应对费用也是一个担忧。企业需要从大量内部文件中筛选出与诉讼相关的资料和商业机密。知识产权处估计,2019年每位专家进行现场调查的费用将增加到600万韩元,但关于企业商业机密管理费用的实证研究将随后进行。 知识产权处表示,在严格的条件下允许调查,并限制查看包含商业机密的报告的人员。相对而言,产业界认为仅靠事后惩罚难以找回泄露的技术,呼吁对保护措施进行验证。 政治界也对此问题表示关注。国民力量党议员崔秀珍表示,她已从知识产权处和法院行政处等处获取资料,检查企业负担和技术保护对策。预计在13日的知识产权处国政审查中也将讨论这一问题。 崔秀珍议员表示:“我非常赞同帮助因证据不均而受到冤屈的专利权人和救助中小企业的初衷,但在全面扩展专利法之前,应该优先验证2028年实施的共生合作法的现场成果,然后再谨慎讨论。”
2026-10-13 03:08:10 -
从设计到产量,中国行…27名三星和SK出身员工加入CXMT根据调查,至少27名在三星电子和SK海力士工作超过15年的半导体技术人才已转职至中国长鑫存储(CXMT)。这些员工涵盖了从电路设计到工艺整合和良率管理等量产各个环节。有人指出,中国的存储企业正在获取韩国积累的生产经验和设备。 10月6日,国会科学技术信息广播通信委员会的国民力量议员崔秀珍公布的调查显示,确认了23名三星电子出身和8名SK海力士出身的CXMT员工履历。去除重复的4名员工,总共为27人。该调查基于LinkedIn等公开履历进行。两家国内企业的平均工作年限为15.4年,其中包括6名拥有20年以上经验的高级和管理人员。 按职务分类,电路设计和布局8人,工艺整合7人,单元工艺、设备技术和良率、缺陷分析各4人。还确认了先进封装和晶圆厂规划的人才。议员办公室将此解读为“交钥匙式猎头”,即为工厂建设和量产稳定化所需的人才流动。然而,仅凭公开履历尚无法确认是否存在系统性招聘或实际技术转移。 在27名员工中,有15人曾在设备、材料公司或大学及其他半导体企业工作后加入CXMT。在调查对象中,26人已离开CXMT,平均在职时间为2.9年。其中7人转至华为香港研究所和中芯国际等中国及香港企业。返回韩国的员工为6人。议员办公室提出了对前职禁令规避和短期技术吸收的可能性,但未确认个别协议的违反情况和离职原因。 议员办公室获得的猎头信息显示,CXMT正在寻找具有HBM封装经验的高级人才,并提供了薪资提升、3至5年保障及住房、子女教育费用支持的建议。工业通商资源部对此回应称:“对于海外企业的合法人才招聘和猎头活动,没有法律依据进行查处或限制。” 议员办公室引用美国对CXMT相关企业名单的指定,要求加强应对。美国自2023年6月30日起限制与该名单上企业的国防采购直接合同,而包括这些企业的产品和服务在内的间接采购限制将于2024年6月30日生效。 崔秀珍议员表示:“半导体技术不仅包括设计,还包括20年、30年积累的人才经验和知识。”她强调,政府需要建立一个系统,以掌握和管理核心人才流向竞争对手的情况,同时应制定激励措施,让人才能够在国内发挥能力。※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-10-06 17:48:00 -
间谍罪扩大适用范围,防止半导体技术泄露面临挑战针对将半导体和人工智能(AI)等国家机密转交给外国的行为,修订后的刑法于13日正式实施。此次修法的核心在于将原本针对“敌国”的处罚范围扩大至所有外国。然而,由于技术泄露大多由内部人员造成,且国家核心技术和外国企业未被纳入条款,因此在防止产业技术泄露方面仍显不足。 根据法律界和产业界的消息,今天实施的修订刑法新设了第98条之2“为外国等进行间谍活动”。如果接受外国或类似组织的指令、教唆,或在其指示下探测、收集、泄露、传递、转介国家机密,将处以三年以上有期徒刑。这是自1953年刑法制定以来,间谍罪适用范围时隔73年首次扩大。 此前,涉及核心技术外泄的事件主要适用《产业技术保护法》或《反不正当竞争法》。根据去年警方查获的179起技术泄露案件,其中海外泄露33起,中国占18起(54.5%),涉及领域包括半导体5起、显示器4起和电池3起。警方将技术泄露视为威胁国家经济安全的犯罪,并计划加强调查。 调查显示,泄露渠道大多来自企业内部。去年查获的179起案件中,内部人员涉及的案件高达148起,占82.7%。受害企业中,中小企业占155起(86.6%),占绝对多数。还有无证职业介绍所被查出将国内半导体核心人才转移至中国企业,并收取数百万的佣金。 法律实施并不意味着间谍罪会立即适用于产业技术泄露。法律界指出,泄露的信息必须符合刑法上的国家机密,并且需要满足外国方面的指令、教唆和联系等条件。此外,产业技术保护法中的国家核心技术并不自动成为国家机密。关于外国私营企业是否属于现行条款中的“外国或类似组织”,在调查和审判过程中可能会有不同的解释。 在法律实施前,已经有修订草案被提出。三星电子前总裁高东镇的国民力量党议员上个月提出了将外国企业和国家核心技术纳入间谍罪适用范围,并将刑期从现行的三年以上提高至十年以上的刑法修订案。该法案已于本月1日提交至国会法制司法委员会。 专家指出,事后惩罚的方式难以弥补已造成的损失,呼吁将技术泄露的应对重点从事后惩罚转向尽早阻止泄露技术的使用和扩散。业界一位人士表示:“在技术被盗取后仅提高惩罚力度已经太晚,及时发现海外企业的高额挖角和离职人员接触,扩大中小合作企业的安全网络才更为重要。”※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-09-14 03:04:10 -
产业部与知识产权局签署MOU 共同应对技术泄露与知识产权问题政府将从产业研发(R&D)阶段开始,将知识产权战略融入到产业技术的整个过程中,包括商业化、海外专利获取、技术泄露和知识产权争议的应对。 产业通商部与知识产权局于1日在首尔钟路区的石炭会馆签署了旨在增强企业“产业技术与知识产权竞争力”的合作备忘录(MOU)。此举是在半导体和人工智能(AI)等高科技领域国家间竞争日益激烈的背景下,旨在将产业政策与知识产权政策结合,支持企业的技术开发与商业化。 根据国家情报院的数据显示,过去五年内,产业技术海外泄露的案件达105起,损失规模约为25万亿韩元。这表明,不仅需要开发高科技,还需要将专利抢占与技术保护整合为一个政策体系。 因此,双方在此次协议中决定在以下方面进行合作:△产业技术与知识产权相关政策和项目的联动 △加强产业技术研发与知识产权的结合 △促进基于产业技术与知识产权的商业化及应用 △基于知识产权的经济安全及国内外技术侵害与争议的应对 △人工智能转型(AX)政策等。 在研发阶段,双方将分析现有专利和技术动态,支持企业和研究机构设计知识产权(IP)组合,以减少对已开发或注册专利技术的重复投资,并确保研究成果能够转化为国内外专利。 在商业化阶段,产业部与知识产权局将联动各自运营的技术与知识产权交易平台,计划共享交易信息,增强中介功能,以便企业更容易找到并获取大学和公共研究机构所拥有的技术。 对于推动海外市场的企业,将支持其获取当地专利和知识产权的利用。因为即使拥有技术,如果未能在主要出口国首先注册专利,就难以有效应对当地竞争对手的专利攻击或技术模仿。 双方还将加强对技术泄露和知识产权侵害及争议的共同应对。产业部的产业技术保护政策与知识产权局的专利和商业秘密调查及争议应对功能将联动,支持企业从损失预防到泄露调查,再到国内外争议的应对。 产业部副部长文信学表示:“提升高端产业的竞争力,关键在于前瞻性地开发优秀技术,并确保其成果能够迅速商业化并安全保护。”他还表示:“将积极支持企业的技术创新,以增强国家竞争力。” 知识产权局局长金勇善指出:“企业要具备全球竞争力,必须前瞻性地获取国内外知识产权,并在资金筹措和争议应对等商业化过程中战略性地加以利用。”他表示:“将加强政策支持,帮助企业在强有力的知识产权战略基础上实现成长。”※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-09-02 02:00:20 -
中国承诺高薪和住房支持,技术泄露者的最终命运国内核心技术被转移至中国的事件引发了人们的关注,许多人开始质疑这些技术泄露者是否最终只是被利用。尽管他们承诺获得高额年薪、住房和教育支持以及股权和管理权保障,但不久后就被解雇或被要求进一步泄露技术的案例不断被曝光,引发了批评。 27日,各大在线社区中,标题为“技术泄露者的说法”的帖子开始传播。 帖子中公开了显示器、造船和半导体技术泄露者的条件和现实情况。据悉,他们从中国方面获得的条件相当优厚,包括高薪、子女国际学校学费和住房支持、提供公寓和汽车、以及股权和管理权保障等。尽管他们承诺获得长期稳定的生活,但实际上在前往中国后却面临截然不同的境遇。 在显示技术泄露事件A的案例中,中国方面承诺在技术转移的条件下提供三年的雇佣保障,并可在此基础上再延长两年。此外,还承诺提供子女国际学校的支持和住房保障。 然而,实际情况却与承诺相悖,A在一年半后被解雇,未能获得长期雇佣保障,仅获得几个月的工资便离开了公司,引起了人们的关注。 B案例是造船领域的技术泄露事件。中国方面承诺提供“3+2”的雇佣条件,并给予比之前高出两倍的年薪,还承诺提供公寓和汽车。 但在前往中国后,他们却遭到要求进一步获取韩国技术的压力,甚至在工作过程中被安排翻译进行监视。最终,他们在中国公司工作约一年后被解雇。 C案例涉及半导体核心技术。中国方面承诺在达到目标后提供股权和管理权保障,并支持子女教育和高档居住条件。 然而,C在前往中国后不仅未能停留在原有技术上,反而被迫进行额外的技术泄露。随着韩国方面对技术泄露展开调查,中国方面解雇了C,C的家人也在当地生活和适应中遇到困难,最终被迫迁往第三国。 这些案例的共同点在于,中国方面以“优厚条件”吸引核心人才,待技术获取目标达成或情况变化后,迅速结束雇佣关系。 特别是对于参与技术泄露的人员而言,失去在国内积累的经验和社会信任,同时在中国的长期雇佣和生活基础也难以得到保障,这一问题引发了广泛关注。 随着这些案例的曝光,在线上出现了许多网友对技术泄露所带来的利益与后续现实的讨论。 网友们纷纷表示:“最终只是被利用和抛弃了吧”、“即使给了高薪,出卖国家技术也是危险的”、“相信中国会给予好的待遇,结果一旦不需要就被抛弃了”等等。 还有人指出:“以为通过技术转移到中国可以过上好日子,但现实却大相径庭”、“只有在需要韩国技术时才会被吸引,技术获取后就被解雇了”、“被承诺双倍年薪和住房、汽车的诱惑下,最终却只是交出了技术。” 尤其是关于被要求进行额外技术泄露的案例,网友们表示:“一旦开始转移技术,就会不断被要求更多”、“最初承诺的条件似乎只是幌子,技术本身才是目的。” 另一方面,也有部分网友强调:“根本就不该进行技术泄露”、“因金钱而出卖国家核心技术的代价是沉重的”、“如果一开始没有做出非法选择,就不会发生这样的事情。”
2026-08-28 18:36:00 -
政府提前一年制定产业技术保护综合计划…加强经济制裁如没收与追缴政府为了防止产业技术泄露,将相关综合计划提前一年制定。特别是还在考虑加强经济制裁措施,包括没收、追缴和损害赔偿等。 产业通商部于25日召开了由产业资源安全室长杨基旭主持的产业技术保护政策协商会,讨论了与科学技术信息通信部、法务部、中小企业部、知识产权局、国防事业厅、警察厅等相关部门的技术保护体系及制裁加强方案。 这是因为近期产业技术海外泄露的趋势有所增加。根据国家情报院的数据,过去五年间查获的产业技术海外泄露事件共96起,预防的损失金额约为23万亿韩元,平均每年查获超过19起海外技术泄露事件。 泄露的技术中,89.5%集中在半导体等国内主力产业,针对安全体系相对薄弱的中小企业的案例也不少。 产业部认为,主要国家将先进技术作为经济和安全手段,国内主力技术可能成为泄露目标。然而,针对技术泄露的惩罚或经济制裁水平较低,未能有效遏制这一现象。 特别是泄露途径不仅限于企业内部人员,还扩大到合作公司、人工智能、云计算等,这也被视为风险因素。 因此,在当天的协商会上,重点讨论了加强产业技术持有机构的技术保护能力、技术保护制度的提升及技术泄露制裁的有效性等方案。同时,还重点讨论了对中小企业和大学、研究机构的技术保护支持与管理方案,以及提高没收、追缴和损害赔偿等经济制裁的有效性。 根据协商会的讨论结果,政府将发布第六次产业技术保护综合计划。政府计划为了应对快速变化的技术安全环境,将综合计划的制定提前一年实施。 杨基旭产业部产业资源安全室长表示:“产业技术是国家、企业和人才努力的核心战略资产,因此有必要进行保护。对于技术泄露,将根据一罚百戒的原则,动员国家力量从政策制定到调查、审查、判决等各个环节进行严厉应对。”※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-08-25 20:36:00 -
中国创信内存科技在全球DRAM市场排名第四,技术安全亟待关注中国创信内存科技(CXMT)已成为全球DRAM市场的第四大企业,市场份额约为8%。该公司在2023年第一季度的收入较去年增长了719%。2025年,创信内存科技实现了自成立以来的首次盈利,目前正计划通过在上海证券市场上市筹集数百亿资金。公司表示,已开始量产服务器用的DDR5和移动设备用的LPDDR5X,同时以市场价的一半出售旧款DDR4。几年前,该公司还被称为“差距五年”。半导体行业是一个难以追赶的领域,因为微细工艺的成功往往依赖于失败的经验积累。要掌握在哪个步骤上出现缺陷、在什么条件下良率曲线下滑,必须经过数千次的试验和错误。虽然可以购买设备,但无法购买操作这些设备的条件。韩国内存产业在过去30年中所建立的进入壁垒,正是这种时间的积累。因此,当后发企业的进度突然加快时,技术泄露往往被视为根本原因。当然,不能仅仅将中国的追赶归因于一次泄露。国家补贴、庞大的内需市场以及能够承受亏损的资本共同作用。然而,如果学习曲线异常缩短,自然会让人怀疑是否有人提供了跳过这一曲线的资料。实际上,这种事件屡见不鲜。曾因涉嫌将三星电子18纳米DRAM工艺信息泄露给CXMT而被判处6年4个月监禁和200万元罚款的前高管,最近在重审中被判刑。另一名曾在SK海力士工作并转至华为子公司的前员工,因涉嫌打印工艺资料而在上诉中被判处5年监禁和30万元罚款。业界普遍认为,5至6年的刑期无法有效遏制诱因。中国企业向核心人才提供数倍于现有薪水的待遇。完成合同后,即使在国内工作20年也难以获得的资产将留给他们。即使被韩国法律制裁,他们也可能会计算出服刑后仍能获利的可能性。值得注意的是,以上两起案件都因《产业技术保护法》和《反不正当竞争法》的修订而使得一审的刑罚加重。对罪行的界定标准也不够明确。虽然根据泄露文件的数量、资料的市场价值以及泄露者所获得的报酬来计算损失,但真正重要的并不是文件的数量,而是缩小技术差距所需的时间。产业技术泄露并不是个人因背叛公司而引发的离职争议,而是国家花费数十年时间、税收和人力积累的资产被转移到竞争国,个人从中获利的行为。因此,惩罚机制也应与此性质相符。在量刑标准中,应将国家核心技术的海外泄露作为独立的加重因素,并将损失计算标准从泄露者所获得的报酬转移到重新获取技术所需的时间和成本上。只有真正执行犯罪收益的没收和追缴,才能避免“服刑后仍有利可图”的计算。对中介人和介绍组织的单独惩罚,以及对通过海外法人和合作伙伴进行的间接泄露的监控也应同步进行。技术泄露的代价是致命的。已有评估认为,通用DRAM市场的份额已相当大程度上被让出。在中国企业以半价出售DDR4并进入DDR5量产阶段的市场中,韩国企业不得不面临市场份额下降的局面。剩下的防线是高带宽内存(HBM)及其后的先进AI半导体。即使是CXMT也承认在HBM领域与韩国企业存在2至4年的差距。这种差距可能会因几份资料而消失。HBM技术涉及DRAM核心、基底芯片、堆叠和封装、热设计等多个方面。虽然可以推测出各个工艺,但同时掌握这些条件只能通过经验获得。目前正处于向定制HBM和先进封装过渡的阶段,正是泄露最为脆弱的时刻。已经泄露的技术无法通过任何判决恢复。半导体的超越差距在于如何快速生产,而不是如何保持现有的2至4年优势。
2026-08-03 16:08:00 -
对LS电线技术盗用指控,대한전선称“尚未确定违法性”대한전선针对LS电线技术盗用的指控表示,"这是调查机构的初步判断,尚未确定违法性或责任",并全面否认了相关指控。在28日的官方声明中,대한전선表示,"我们正在确认与海底电缆1工厂相关的调查结果的具体内容",并强调"在海底电缆1工厂的建设过程中,没有利用或指示、共谋他公司的商业秘密"。대한전선表示,将在未来的检察和法院程序中,诚实地阐明相关事实和法律问题。根据대한전선的说法,海底电缆工厂的建设涉及设计、制造、施工等多个领域的专业公司,대한전선表示,已通过合法程序选择了具备相关经验和专业性的合作伙伴。대한전선认为,仅凭部分参与公司在过去其他项目中的经验,不能认为其获取或使用了他公司的商业秘密。目前争议的焦点在于:是否属于法律保护的商业秘密,以及대한전선是否以不正当方式获取或使用了这些秘密。这些问题需要在未来的司法程序中进行充分的法律审查和判断。对于部分人提出的工厂结构相似性,대한전선反驳称,"海底电缆1工厂是综合考虑公司的业务计划、场地条件、生产产品、设备规格、物流路线等因素而建设的工厂",并指出"由于海底电缆生产工艺的特性,行业内普遍存在的工艺流程或设备布局元素,并不能因此认为使用了特定公司的商业秘密"。此外,대한전선强调,"此次事件是与海底电缆1工厂建设过程相关的争议,与目前正在推进的海底电缆2工厂及HVDC海底电缆项目无关",并表示"现有业务的执行、工厂运营、产品生产、交货、海外订单及未来业务推进均在正常进行"。对于大规模赔偿的可能性,대한전선也予以否认,称"实际的赔偿责任和范围将通过法院的严格审理来判断",并表示"媒体提到的金额被直接认可的看法是过度解读"。最后,대한전선表示,"我们将继续以负责任的态度认真对待相关程序",并表示"对于与事实不符的内容传播或可能对公司的业务及股东价值产生重大影响的虚假和夸大报道,将考虑采取必要的应对措施"。
2026-05-29 02:56:00 -
从‘事后惩罚’到‘国家防御体系’:半导体技术泄露的应对策略检察官访问三星电子平泽园区,直接检查半导体工艺和安全体系。负责技术泄露调查的官员们查看了生产线并听取了现场意见,这是一个有意义的变化。技术犯罪不仅仅是法律问题,理解工艺结构和数据流动是关键。虽然调查机构的现场接触来得有些晚,但这是必要的措施。然而,技术泄露的应对不能仅靠‘加强调查’来解决。调查本质上是事后反应,而技术泄露一旦发生,几乎无法恢复。因此,防御体系的核心应在于事前预防而非事后惩罚。调查提供威慑力,而预防则阻止实际泄露。这两者是功能分工关系,政策需要基于这种分工结构重新设计。第一,企业内部控制是关键。大多数技术泄露并非来自外部黑客,而是内部人员和合作网络。信息常在离职、联合研究、合作伙伴接触中泄露。因此,企业必须精确管理访问权限、追踪数据流动、管理核心人员。这不仅是选择,而是生存条件。同时,不能将成本和责任仅推给企业。技术保护与国家竞争力直接相关,政府应提供制度和财政支持。第二,明确人力流动标准。在高科技产业中,人才流动是创新的核心动力,但也是最大泄露途径。职业选择自由和商业秘密保护本质上是冲突的权利。需要具体标准,例如限制竞业禁止期并提供合理补偿,明确保护技术的范围。否则,企业和调查机构无法判断合法离职与非法泄露的界限。第三,国家角色的明确化。技术泄露不再是个别企业的问题。在半导体等关键产业中,它与国家安全息息相关。因此,国家的角色必须明确。政府制定规则,提供信息和外交能力,推动国际合作。企业在规则内承担执行责任,调查机构惩罚违规行为。这种三角结构必须运作。国家不能控制一切,也不能将所有责任推给企业。第四,整合应对体系。目前,技术泄露应对分散在多个部门和机构中。工业部、检察院、警察、情报机构各自为政。这种结构导致信息断裂,响应速度下降。所谓的‘控制塔’并非全权机构,而是负责国内信息整合、快速共享和机构间协作的角色。虽然无法直接阻止海外犯罪,但能显著提高国内应对效率。第五,国际合作。技术泄露的最终目的地多为海外。特别是半导体产业,处于全球供应链中,单一国家的应对有限。必须加强与主要技术持有国的调查合作、信息交换和法律应对体系。外交不再是独立领域,而是技术安全的一部分。在所有讨论中,最重要的原则是‘结构’而非‘平衡’。加强保护可能抑制创新,扩大自由则增加泄露风险。因此,需要具备条件和标准的结构设计。必须明确保护的范围、限制的条件和责任的归属。半导体不仅是简单的产业,而是积累了数十年的技术和经验的国家核心资产。一旦泄露,无法挽回,影响将持续数代。现在需要的是一种使泄露本身变得结构上困难的系统,而非每次事件发生后才采取应对措施。检察官的现场访问是一个起点。现在需要将这一起点延续到制度和结构中。当调查、企业、政府和外交各自明确角色并形成一个体系时,技术泄露才会进入可控范围。国家竞争力不是宣言,而是设计。※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-05-05 19:16:21
-
知识产权部门推动技术警察扩大调查范围以应对技术泄露知识产权处正在推动对《司法警察管理的职务及其职务范围法》(司法警察职务法)的修订,以扩大技术警察的调查范围,涵盖国家核心技术和国家先进战略技术的泄露犯罪。这一决定是基于检察院的废除可能导致技术泄露调查出现漏洞的判断。 知识产权处于14日表示,将加快对司法警察职务法的修订。目前,知识产权处的技术警察仅能调查专利和商业秘密侵权犯罪,而对违反工业技术保护法或国家先进战略产业法的案件没有直接调查权。 问题在于,这两类犯罪往往在同一事件中同时发生。根据知识产权处的数据,技术警察以起诉意见移送的商业秘密境外泄露案件中,有81.8%的案件同时涉及违反工业技术保护法或国家先进战略产业法的嫌疑。这些嫌疑需要转交给其他调查机构,但根据新修订的刑事诉讼法,知识产权处无法对本月成立的公诉检察官进行补充调查,这可能导致处理延迟或部分嫌疑被遗漏。在此次国政审查中,也有人指出需要完善制度以防止技术泄露调查的空白。 根据工业通商资源部的统计,从2020年到2025年,因海外技术泄露造成的产业损失规模预计达到约23兆2700亿韩元。尤其是包括半导体在内的先进产业技术泄露,对国家经济和安全构成了严重威胁。 知识产权处认为,技术泄露案件从确定搜查范围到证据分析和嫌疑证明都需要技术专业性,因此应由技术警察从调查初期就直接负责。司法政策研究院在去年的研究中指出,对技术的理解不足是技术泄露审判困难的主要原因。国会中已有多项相关修订案被提案。 知识产权处长金勇善表示:“先进技术的泄露不仅对企业造成损害,还严重威胁国家经济、安全和产业竞争力,这是一起重大犯罪。”他强调:“在刑事司法体系改革过程中,必须尽快完善相关法律,以确保技术泄露调查不出现漏洞,并基于技术警察的专业性,迅速有效地应对核心技术泄露犯罪。”※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-10-16 23:00:10 -
K-发现制度可能导致国内技术和商业机密泄露为防止中小企业技术被盗,韩国引入的证据披露制度(K-发现)若扩展至专利法,可能导致国内技术企业的机密泄露至海外。业内人士担忧,海外竞争对手或全球“专利猎人”可能借专利诉讼之机,查看国内企业的内部资料。 根据政府和产业界的消息,K-发现制度的引入是《大中小企业共生合作促进法》(共生合作法)修正案的核心内容,该修正案已于今年1月通过国会。知识产权处也在推动将该制度扩展至一般专利侵权诉讼的专利法修正案。法院指定的专家将能够在诉讼当事人的工厂和办公室调查与侵权相关的资料,这是该制度的关键。 政府认为这是为了救助遭受技术侵害的企业。中小企业即使怀疑技术被盗,也难以获取对方的内部证据。知识产权处提供的专利侵权诉讼原告胜诉率仅为11.1%。 然而,产业界担忧,如果将这一制度扩展至一般专利诉讼,海外竞争对手或全球专利管理公司(NPE)可能会将其作为获取国内企业技术资料的手段。半导体制造过程的条件和设备操作方式是核心信息,仅凭产品难以了解。以确认专利侵权为由,这些资料可能成为调查对象。 实际上,SK海力士今年以来遭到多家美国NPE的高带宽内存(HBM)相关专利诉讼攻击,这种情况在国内发生的可能性也不容忽视。 在国内诉讼过程中披露的资料可能被用于海外诉讼等。半导体行业人士表示:“虽然理解韩国式发现扩展的初衷,但必须具体制定使用限制和违规时的制裁措施,以防调查过程中获得的资料被用于海外诉讼。” 诉讼应对费用也是一个担忧。企业需要从大量内部文件中筛选出与诉讼相关的资料和商业机密。知识产权处估计,2019年每位专家进行现场调查的费用将增加到600万韩元,但关于企业商业机密管理费用的实证研究将随后进行。 知识产权处表示,在严格的条件下允许调查,并限制查看包含商业机密的报告的人员。相对而言,产业界认为仅靠事后惩罚难以找回泄露的技术,呼吁对保护措施进行验证。 政治界也对此问题表示关注。国民力量党议员崔秀珍表示,她已从知识产权处和法院行政处等处获取资料,检查企业负担和技术保护对策。预计在13日的知识产权处国政审查中也将讨论这一问题。 崔秀珍议员表示:“我非常赞同帮助因证据不均而受到冤屈的专利权人和救助中小企业的初衷,但在全面扩展专利法之前,应该优先验证2028年实施的共生合作法的现场成果,然后再谨慎讨论。”
2026-10-13 03:08:10 -
从设计到产量,中国行…27名三星和SK出身员工加入CXMT根据调查,至少27名在三星电子和SK海力士工作超过15年的半导体技术人才已转职至中国长鑫存储(CXMT)。这些员工涵盖了从电路设计到工艺整合和良率管理等量产各个环节。有人指出,中国的存储企业正在获取韩国积累的生产经验和设备。 10月6日,国会科学技术信息广播通信委员会的国民力量议员崔秀珍公布的调查显示,确认了23名三星电子出身和8名SK海力士出身的CXMT员工履历。去除重复的4名员工,总共为27人。该调查基于LinkedIn等公开履历进行。两家国内企业的平均工作年限为15.4年,其中包括6名拥有20年以上经验的高级和管理人员。 按职务分类,电路设计和布局8人,工艺整合7人,单元工艺、设备技术和良率、缺陷分析各4人。还确认了先进封装和晶圆厂规划的人才。议员办公室将此解读为“交钥匙式猎头”,即为工厂建设和量产稳定化所需的人才流动。然而,仅凭公开履历尚无法确认是否存在系统性招聘或实际技术转移。 在27名员工中,有15人曾在设备、材料公司或大学及其他半导体企业工作后加入CXMT。在调查对象中,26人已离开CXMT,平均在职时间为2.9年。其中7人转至华为香港研究所和中芯国际等中国及香港企业。返回韩国的员工为6人。议员办公室提出了对前职禁令规避和短期技术吸收的可能性,但未确认个别协议的违反情况和离职原因。 议员办公室获得的猎头信息显示,CXMT正在寻找具有HBM封装经验的高级人才,并提供了薪资提升、3至5年保障及住房、子女教育费用支持的建议。工业通商资源部对此回应称:“对于海外企业的合法人才招聘和猎头活动,没有法律依据进行查处或限制。” 议员办公室引用美国对CXMT相关企业名单的指定,要求加强应对。美国自2023年6月30日起限制与该名单上企业的国防采购直接合同,而包括这些企业的产品和服务在内的间接采购限制将于2024年6月30日生效。 崔秀珍议员表示:“半导体技术不仅包括设计,还包括20年、30年积累的人才经验和知识。”她强调,政府需要建立一个系统,以掌握和管理核心人才流向竞争对手的情况,同时应制定激励措施,让人才能够在国内发挥能力。※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-10-06 17:48:00 -
间谍罪扩大适用范围,防止半导体技术泄露面临挑战针对将半导体和人工智能(AI)等国家机密转交给外国的行为,修订后的刑法于13日正式实施。此次修法的核心在于将原本针对“敌国”的处罚范围扩大至所有外国。然而,由于技术泄露大多由内部人员造成,且国家核心技术和外国企业未被纳入条款,因此在防止产业技术泄露方面仍显不足。 根据法律界和产业界的消息,今天实施的修订刑法新设了第98条之2“为外国等进行间谍活动”。如果接受外国或类似组织的指令、教唆,或在其指示下探测、收集、泄露、传递、转介国家机密,将处以三年以上有期徒刑。这是自1953年刑法制定以来,间谍罪适用范围时隔73年首次扩大。 此前,涉及核心技术外泄的事件主要适用《产业技术保护法》或《反不正当竞争法》。根据去年警方查获的179起技术泄露案件,其中海外泄露33起,中国占18起(54.5%),涉及领域包括半导体5起、显示器4起和电池3起。警方将技术泄露视为威胁国家经济安全的犯罪,并计划加强调查。 调查显示,泄露渠道大多来自企业内部。去年查获的179起案件中,内部人员涉及的案件高达148起,占82.7%。受害企业中,中小企业占155起(86.6%),占绝对多数。还有无证职业介绍所被查出将国内半导体核心人才转移至中国企业,并收取数百万的佣金。 法律实施并不意味着间谍罪会立即适用于产业技术泄露。法律界指出,泄露的信息必须符合刑法上的国家机密,并且需要满足外国方面的指令、教唆和联系等条件。此外,产业技术保护法中的国家核心技术并不自动成为国家机密。关于外国私营企业是否属于现行条款中的“外国或类似组织”,在调查和审判过程中可能会有不同的解释。 在法律实施前,已经有修订草案被提出。三星电子前总裁高东镇的国民力量党议员上个月提出了将外国企业和国家核心技术纳入间谍罪适用范围,并将刑期从现行的三年以上提高至十年以上的刑法修订案。该法案已于本月1日提交至国会法制司法委员会。 专家指出,事后惩罚的方式难以弥补已造成的损失,呼吁将技术泄露的应对重点从事后惩罚转向尽早阻止泄露技术的使用和扩散。业界一位人士表示:“在技术被盗取后仅提高惩罚力度已经太晚,及时发现海外企业的高额挖角和离职人员接触,扩大中小合作企业的安全网络才更为重要。”※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-09-14 03:04:10 -
产业部与知识产权局签署MOU 共同应对技术泄露与知识产权问题政府将从产业研发(R&D)阶段开始,将知识产权战略融入到产业技术的整个过程中,包括商业化、海外专利获取、技术泄露和知识产权争议的应对。 产业通商部与知识产权局于1日在首尔钟路区的石炭会馆签署了旨在增强企业“产业技术与知识产权竞争力”的合作备忘录(MOU)。此举是在半导体和人工智能(AI)等高科技领域国家间竞争日益激烈的背景下,旨在将产业政策与知识产权政策结合,支持企业的技术开发与商业化。 根据国家情报院的数据显示,过去五年内,产业技术海外泄露的案件达105起,损失规模约为25万亿韩元。这表明,不仅需要开发高科技,还需要将专利抢占与技术保护整合为一个政策体系。 因此,双方在此次协议中决定在以下方面进行合作:△产业技术与知识产权相关政策和项目的联动 △加强产业技术研发与知识产权的结合 △促进基于产业技术与知识产权的商业化及应用 △基于知识产权的经济安全及国内外技术侵害与争议的应对 △人工智能转型(AX)政策等。 在研发阶段,双方将分析现有专利和技术动态,支持企业和研究机构设计知识产权(IP)组合,以减少对已开发或注册专利技术的重复投资,并确保研究成果能够转化为国内外专利。 在商业化阶段,产业部与知识产权局将联动各自运营的技术与知识产权交易平台,计划共享交易信息,增强中介功能,以便企业更容易找到并获取大学和公共研究机构所拥有的技术。 对于推动海外市场的企业,将支持其获取当地专利和知识产权的利用。因为即使拥有技术,如果未能在主要出口国首先注册专利,就难以有效应对当地竞争对手的专利攻击或技术模仿。 双方还将加强对技术泄露和知识产权侵害及争议的共同应对。产业部的产业技术保护政策与知识产权局的专利和商业秘密调查及争议应对功能将联动,支持企业从损失预防到泄露调查,再到国内外争议的应对。 产业部副部长文信学表示:“提升高端产业的竞争力,关键在于前瞻性地开发优秀技术,并确保其成果能够迅速商业化并安全保护。”他还表示:“将积极支持企业的技术创新,以增强国家竞争力。” 知识产权局局长金勇善指出:“企业要具备全球竞争力,必须前瞻性地获取国内外知识产权,并在资金筹措和争议应对等商业化过程中战略性地加以利用。”他表示:“将加强政策支持,帮助企业在强有力的知识产权战略基础上实现成长。”※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-09-02 02:00:20 -
中国承诺高薪和住房支持,技术泄露者的最终命运国内核心技术被转移至中国的事件引发了人们的关注,许多人开始质疑这些技术泄露者是否最终只是被利用。尽管他们承诺获得高额年薪、住房和教育支持以及股权和管理权保障,但不久后就被解雇或被要求进一步泄露技术的案例不断被曝光,引发了批评。 27日,各大在线社区中,标题为“技术泄露者的说法”的帖子开始传播。 帖子中公开了显示器、造船和半导体技术泄露者的条件和现实情况。据悉,他们从中国方面获得的条件相当优厚,包括高薪、子女国际学校学费和住房支持、提供公寓和汽车、以及股权和管理权保障等。尽管他们承诺获得长期稳定的生活,但实际上在前往中国后却面临截然不同的境遇。 在显示技术泄露事件A的案例中,中国方面承诺在技术转移的条件下提供三年的雇佣保障,并可在此基础上再延长两年。此外,还承诺提供子女国际学校的支持和住房保障。 然而,实际情况却与承诺相悖,A在一年半后被解雇,未能获得长期雇佣保障,仅获得几个月的工资便离开了公司,引起了人们的关注。 B案例是造船领域的技术泄露事件。中国方面承诺提供“3+2”的雇佣条件,并给予比之前高出两倍的年薪,还承诺提供公寓和汽车。 但在前往中国后,他们却遭到要求进一步获取韩国技术的压力,甚至在工作过程中被安排翻译进行监视。最终,他们在中国公司工作约一年后被解雇。 C案例涉及半导体核心技术。中国方面承诺在达到目标后提供股权和管理权保障,并支持子女教育和高档居住条件。 然而,C在前往中国后不仅未能停留在原有技术上,反而被迫进行额外的技术泄露。随着韩国方面对技术泄露展开调查,中国方面解雇了C,C的家人也在当地生活和适应中遇到困难,最终被迫迁往第三国。 这些案例的共同点在于,中国方面以“优厚条件”吸引核心人才,待技术获取目标达成或情况变化后,迅速结束雇佣关系。 特别是对于参与技术泄露的人员而言,失去在国内积累的经验和社会信任,同时在中国的长期雇佣和生活基础也难以得到保障,这一问题引发了广泛关注。 随着这些案例的曝光,在线上出现了许多网友对技术泄露所带来的利益与后续现实的讨论。 网友们纷纷表示:“最终只是被利用和抛弃了吧”、“即使给了高薪,出卖国家技术也是危险的”、“相信中国会给予好的待遇,结果一旦不需要就被抛弃了”等等。 还有人指出:“以为通过技术转移到中国可以过上好日子,但现实却大相径庭”、“只有在需要韩国技术时才会被吸引,技术获取后就被解雇了”、“被承诺双倍年薪和住房、汽车的诱惑下,最终却只是交出了技术。” 尤其是关于被要求进行额外技术泄露的案例,网友们表示:“一旦开始转移技术,就会不断被要求更多”、“最初承诺的条件似乎只是幌子,技术本身才是目的。” 另一方面,也有部分网友强调:“根本就不该进行技术泄露”、“因金钱而出卖国家核心技术的代价是沉重的”、“如果一开始没有做出非法选择,就不会发生这样的事情。”
2026-08-28 18:36:00 -
政府提前一年制定产业技术保护综合计划…加强经济制裁如没收与追缴政府为了防止产业技术泄露,将相关综合计划提前一年制定。特别是还在考虑加强经济制裁措施,包括没收、追缴和损害赔偿等。 产业通商部于25日召开了由产业资源安全室长杨基旭主持的产业技术保护政策协商会,讨论了与科学技术信息通信部、法务部、中小企业部、知识产权局、国防事业厅、警察厅等相关部门的技术保护体系及制裁加强方案。 这是因为近期产业技术海外泄露的趋势有所增加。根据国家情报院的数据,过去五年间查获的产业技术海外泄露事件共96起,预防的损失金额约为23万亿韩元,平均每年查获超过19起海外技术泄露事件。 泄露的技术中,89.5%集中在半导体等国内主力产业,针对安全体系相对薄弱的中小企业的案例也不少。 产业部认为,主要国家将先进技术作为经济和安全手段,国内主力技术可能成为泄露目标。然而,针对技术泄露的惩罚或经济制裁水平较低,未能有效遏制这一现象。 特别是泄露途径不仅限于企业内部人员,还扩大到合作公司、人工智能、云计算等,这也被视为风险因素。 因此,在当天的协商会上,重点讨论了加强产业技术持有机构的技术保护能力、技术保护制度的提升及技术泄露制裁的有效性等方案。同时,还重点讨论了对中小企业和大学、研究机构的技术保护支持与管理方案,以及提高没收、追缴和损害赔偿等经济制裁的有效性。 根据协商会的讨论结果,政府将发布第六次产业技术保护综合计划。政府计划为了应对快速变化的技术安全环境,将综合计划的制定提前一年实施。 杨基旭产业部产业资源安全室长表示:“产业技术是国家、企业和人才努力的核心战略资产,因此有必要进行保护。对于技术泄露,将根据一罚百戒的原则,动员国家力量从政策制定到调查、审查、判决等各个环节进行严厉应对。”※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-08-25 20:36:00 -
中国创信内存科技在全球DRAM市场排名第四,技术安全亟待关注中国创信内存科技(CXMT)已成为全球DRAM市场的第四大企业,市场份额约为8%。该公司在2023年第一季度的收入较去年增长了719%。2025年,创信内存科技实现了自成立以来的首次盈利,目前正计划通过在上海证券市场上市筹集数百亿资金。公司表示,已开始量产服务器用的DDR5和移动设备用的LPDDR5X,同时以市场价的一半出售旧款DDR4。几年前,该公司还被称为“差距五年”。半导体行业是一个难以追赶的领域,因为微细工艺的成功往往依赖于失败的经验积累。要掌握在哪个步骤上出现缺陷、在什么条件下良率曲线下滑,必须经过数千次的试验和错误。虽然可以购买设备,但无法购买操作这些设备的条件。韩国内存产业在过去30年中所建立的进入壁垒,正是这种时间的积累。因此,当后发企业的进度突然加快时,技术泄露往往被视为根本原因。当然,不能仅仅将中国的追赶归因于一次泄露。国家补贴、庞大的内需市场以及能够承受亏损的资本共同作用。然而,如果学习曲线异常缩短,自然会让人怀疑是否有人提供了跳过这一曲线的资料。实际上,这种事件屡见不鲜。曾因涉嫌将三星电子18纳米DRAM工艺信息泄露给CXMT而被判处6年4个月监禁和200万元罚款的前高管,最近在重审中被判刑。另一名曾在SK海力士工作并转至华为子公司的前员工,因涉嫌打印工艺资料而在上诉中被判处5年监禁和30万元罚款。业界普遍认为,5至6年的刑期无法有效遏制诱因。中国企业向核心人才提供数倍于现有薪水的待遇。完成合同后,即使在国内工作20年也难以获得的资产将留给他们。即使被韩国法律制裁,他们也可能会计算出服刑后仍能获利的可能性。值得注意的是,以上两起案件都因《产业技术保护法》和《反不正当竞争法》的修订而使得一审的刑罚加重。对罪行的界定标准也不够明确。虽然根据泄露文件的数量、资料的市场价值以及泄露者所获得的报酬来计算损失,但真正重要的并不是文件的数量,而是缩小技术差距所需的时间。产业技术泄露并不是个人因背叛公司而引发的离职争议,而是国家花费数十年时间、税收和人力积累的资产被转移到竞争国,个人从中获利的行为。因此,惩罚机制也应与此性质相符。在量刑标准中,应将国家核心技术的海外泄露作为独立的加重因素,并将损失计算标准从泄露者所获得的报酬转移到重新获取技术所需的时间和成本上。只有真正执行犯罪收益的没收和追缴,才能避免“服刑后仍有利可图”的计算。对中介人和介绍组织的单独惩罚,以及对通过海外法人和合作伙伴进行的间接泄露的监控也应同步进行。技术泄露的代价是致命的。已有评估认为,通用DRAM市场的份额已相当大程度上被让出。在中国企业以半价出售DDR4并进入DDR5量产阶段的市场中,韩国企业不得不面临市场份额下降的局面。剩下的防线是高带宽内存(HBM)及其后的先进AI半导体。即使是CXMT也承认在HBM领域与韩国企业存在2至4年的差距。这种差距可能会因几份资料而消失。HBM技术涉及DRAM核心、基底芯片、堆叠和封装、热设计等多个方面。虽然可以推测出各个工艺,但同时掌握这些条件只能通过经验获得。目前正处于向定制HBM和先进封装过渡的阶段,正是泄露最为脆弱的时刻。已经泄露的技术无法通过任何判决恢复。半导体的超越差距在于如何快速生产,而不是如何保持现有的2至4年优势。
2026-08-03 16:08:00 -
对LS电线技术盗用指控,대한전선称“尚未确定违法性”대한전선针对LS电线技术盗用的指控表示,"这是调查机构的初步判断,尚未确定违法性或责任",并全面否认了相关指控。在28日的官方声明中,대한전선表示,"我们正在确认与海底电缆1工厂相关的调查结果的具体内容",并强调"在海底电缆1工厂的建设过程中,没有利用或指示、共谋他公司的商业秘密"。대한전선表示,将在未来的检察和法院程序中,诚实地阐明相关事实和法律问题。根据대한전선的说法,海底电缆工厂的建设涉及设计、制造、施工等多个领域的专业公司,대한전선表示,已通过合法程序选择了具备相关经验和专业性的合作伙伴。대한전선认为,仅凭部分参与公司在过去其他项目中的经验,不能认为其获取或使用了他公司的商业秘密。目前争议的焦点在于:是否属于法律保护的商业秘密,以及대한전선是否以不正当方式获取或使用了这些秘密。这些问题需要在未来的司法程序中进行充分的法律审查和判断。对于部分人提出的工厂结构相似性,대한전선反驳称,"海底电缆1工厂是综合考虑公司的业务计划、场地条件、生产产品、设备规格、物流路线等因素而建设的工厂",并指出"由于海底电缆生产工艺的特性,行业内普遍存在的工艺流程或设备布局元素,并不能因此认为使用了特定公司的商业秘密"。此外,대한전선强调,"此次事件是与海底电缆1工厂建设过程相关的争议,与目前正在推进的海底电缆2工厂及HVDC海底电缆项目无关",并表示"现有业务的执行、工厂运营、产品生产、交货、海外订单及未来业务推进均在正常进行"。对于大规模赔偿的可能性,대한전선也予以否认,称"实际的赔偿责任和范围将通过法院的严格审理来判断",并表示"媒体提到的金额被直接认可的看法是过度解读"。最后,대한전선表示,"我们将继续以负责任的态度认真对待相关程序",并表示"对于与事实不符的内容传播或可能对公司的业务及股东价值产生重大影响的虚假和夸大报道,将考虑采取必要的应对措施"。
2026-05-29 02:56:00 -
从‘事后惩罚’到‘国家防御体系’:半导体技术泄露的应对策略检察官访问三星电子平泽园区,直接检查半导体工艺和安全体系。负责技术泄露调查的官员们查看了生产线并听取了现场意见,这是一个有意义的变化。技术犯罪不仅仅是法律问题,理解工艺结构和数据流动是关键。虽然调查机构的现场接触来得有些晚,但这是必要的措施。然而,技术泄露的应对不能仅靠‘加强调查’来解决。调查本质上是事后反应,而技术泄露一旦发生,几乎无法恢复。因此,防御体系的核心应在于事前预防而非事后惩罚。调查提供威慑力,而预防则阻止实际泄露。这两者是功能分工关系,政策需要基于这种分工结构重新设计。第一,企业内部控制是关键。大多数技术泄露并非来自外部黑客,而是内部人员和合作网络。信息常在离职、联合研究、合作伙伴接触中泄露。因此,企业必须精确管理访问权限、追踪数据流动、管理核心人员。这不仅是选择,而是生存条件。同时,不能将成本和责任仅推给企业。技术保护与国家竞争力直接相关,政府应提供制度和财政支持。第二,明确人力流动标准。在高科技产业中,人才流动是创新的核心动力,但也是最大泄露途径。职业选择自由和商业秘密保护本质上是冲突的权利。需要具体标准,例如限制竞业禁止期并提供合理补偿,明确保护技术的范围。否则,企业和调查机构无法判断合法离职与非法泄露的界限。第三,国家角色的明确化。技术泄露不再是个别企业的问题。在半导体等关键产业中,它与国家安全息息相关。因此,国家的角色必须明确。政府制定规则,提供信息和外交能力,推动国际合作。企业在规则内承担执行责任,调查机构惩罚违规行为。这种三角结构必须运作。国家不能控制一切,也不能将所有责任推给企业。第四,整合应对体系。目前,技术泄露应对分散在多个部门和机构中。工业部、检察院、警察、情报机构各自为政。这种结构导致信息断裂,响应速度下降。所谓的‘控制塔’并非全权机构,而是负责国内信息整合、快速共享和机构间协作的角色。虽然无法直接阻止海外犯罪,但能显著提高国内应对效率。第五,国际合作。技术泄露的最终目的地多为海外。特别是半导体产业,处于全球供应链中,单一国家的应对有限。必须加强与主要技术持有国的调查合作、信息交换和法律应对体系。外交不再是独立领域,而是技术安全的一部分。在所有讨论中,最重要的原则是‘结构’而非‘平衡’。加强保护可能抑制创新,扩大自由则增加泄露风险。因此,需要具备条件和标准的结构设计。必须明确保护的范围、限制的条件和责任的归属。半导体不仅是简单的产业,而是积累了数十年的技术和经验的国家核心资产。一旦泄露,无法挽回,影响将持续数代。现在需要的是一种使泄露本身变得结构上困难的系统,而非每次事件发生后才采取应对措施。检察官的现场访问是一个起点。现在需要将这一起点延续到制度和结构中。当调查、企业、政府和外交各自明确角色并形成一个体系时,技术泄露才会进入可控范围。国家竞争力不是宣言,而是设计。※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-05-05 19:16:21