为了支持人工智能（AI）相关的半导体生产，政府将大幅简化极紫外（EUV）设备的国内引进程序。引进周期将从34天缩短至9天，预计引进成本也将减少约5000万元。

工业通商部在2日的国务会议上通过了包含上述内容的《高压气体安全管理法实施条例部分修订案》。其核心是对符合全球安全标准的半导体制造设备，适用特定设备标准，而非高压气体一般制造设施标准。

近期，半导体出口成为推动韩国经济的重要力量。上个月，半导体出口额达到3716亿美元，比去年同期激增169.4%。这主要受到美国大型科技公司设备投资增加和内存固定价格持续上涨的影响。

有观点认为，围绕半导体的韩国出口有望实现“梦想中的1万亿美元”。然而，企业虽然在增加对先进半导体生产线所需设备的进口，但设备引进延迟的问题也受到关注。

因此，政府决定大幅简化EUV设备的国内引进程序，以便国内半导体企业能够及时引进先进制造设备并迅速投入使用，从而维持产业的“超差距”。

此前，EUV设备因内部包含高压气体管道和装置，被归类为高压气体制造设施。因此，每次设备安装都需要进行技术审核、中间检查和完工检查，导致设备引进需耗时约34天。在中间检查过程中，还需进行海外认证检查机构的耐压密封检查，每台设备的检查费用高达5000万元。 工业部为了解决现场的困难，与半导体行业进行了多次协商，收集了意见。同时，仔细审查了全球安全标准与国内安全管理体系之间的协调性，决定将EUV设备转为特定设备进行安全管理。

通过这一措施，技术审核时间将从目前的15天缩短至2天，中间检查将被省略，完工检查将从7天缩短至2天。总耗时预计将从34天大幅缩短至9天，同时也将减轻中间检查带来的费用负担。

此外，还将新设定针对使用二氧化碳进行清洗的环保“液化二氧化碳清洗设备”的定制检查标准，以合理化监管。同时，对商业液化二氧化碳清洗设备、高压气体储存设施等低风险高压气体设施的安全管理者任命标准进行了相应调整。

修订案将在下周公布后立即实施。工业部部长金正官表示：“此次法令修订是同时实现安全保障与提升先进产业竞争力的典型监管创新案例，我们将通过符合全球标准的合理安全管理体系，积极支持先进产业投资。”



※ 本报道经人工智能（AI）系统翻译与编辑。

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