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‘DUV光刻机’新闻 5个
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中国DUV开发公司成立三年,成功实现国产化中国成功实现了浸没式DUV(深紫外线)光刻机的国产化,相关设备开发公司为成立于上海的爱晟纳(爱晟纳电子技术集团)。 据路透社29日援引匿名消息人士的报道,爱晟纳正在招募国内光刻机专家,致力于制造浸没式DUV光刻机。 爱晟纳成立于2023年8月,注册资本为70亿元人民币(约合1.5万亿韩元)。上海电气(SMEE)和上海市政府下属的上海国际信托各持有50%的股份,均为国有企业。路透社报道,爱晟纳吸纳了SMEE和宇量昇的光刻机开发团队。SMEE和宇量昇均为光刻机制造商,宇量昇被视为华为的关联公司,其母公司为半导体设备公司新凯来。 分析认为,中国在2023年成立爱晟纳并整合SMEE与宇量昇的开发团队,以加快国家层面的DUV设备开发进程。 此前,美国IT媒体《信息》在28日的报道中提到,中国的一家半导体设备公司正在制造浸没式DUV光刻机,预计今年将交付5台,明年将交付20台,但未透露该公司的名称。 如果中国成功制造浸没式DUV光刻机,这将被视为历史性的技术突破。新加坡管理大学的副教授傅芳剑在接受《联合早报》采访时表示:“这将成为中国克服美国技术压力的一个突破口。” 此外,总部位于新加坡的Advantage Research Consulting创始人张盼表示:“如果中国能够制造DUV光刻机,那么突破7纳米半导体工艺技术只是时间问题。如果中国加速光刻机技术的开发,将对美国主导的全球半导体生态系统构成实质性威胁。”
2026-07-29 18:18:00 -
中国成功实现DUV光刻机国产化,半导体行业迎来重大突破中国成功实现了半导体工艺核心设备——深紫外(DUV)光刻机的国产化。继前一天中国最大DRAM厂商CXMT(长鑫科技)成功上市后,中国半导体行业的好消息接连而至。这一成就对韩国半导体企业的股价造成了重大冲击,28日,三星电子股价下跌了13.4%,SK海力士则下跌了14.7%。 中国的半导体设备企业开始生产自主研发的浸没式DUV设备,预计今年将生产5台并交付给客户。美国IT专业媒体《信息时报》在28日报道称,生产的设备将供应给中芯国际、华虹半导体、长鑫科技等中国主要半导体企业。这是中国企业首次制造浸没式DUV设备。《信息时报》还指出,预计明年将交付20台设备。美国制裁7年后DUV国产化成果显现自2019年起,美国禁止向中国出口最先进的极紫外(EUV)光刻机,并从2023年开始禁止向中国出口浸没式DUV设备。中国自2019年起便致力于光刻机的国产化,经过7年的努力,终于实现了DUV的国产化。 浸没式DUV设备能够通过一次曝光工艺(图案化)制造28纳米(nm)工艺的半导体。如果经过多次电路曝光的多图案化工艺,则可以覆盖到7纳米工艺。然而,多图案化工艺的良品率较低,制造成本较高。 浸没式DUV设备由荷兰光刻机制造商ASML于2006年推出。中国制造的设备预计与ASML2008年版本的浸没式DUV性能相似。根据计算,ASML与中国光刻机技术的差距约为18年。EUV设备预计2030年将见成效尽管中国在7年内实现DUV国产化被认为是相当大的成就,但这标志着中国28纳米半导体工艺的国产化已完成。此外,预计中国将以此为基础,加快EUV光刻机的开发。 中国政府将2026年至2030年第十五个五年计划的核心目标设定为“技术自立”,其中最重要的任务无疑是EUV光刻机的开发。虽然中国政府并未具体提及开发时间,但当地半导体行业普遍认为,2030年开始EUV设备的开发成果将会显现。华为关联公司被指为DUV开发企业中国DUV设备制造商的名称尚未公开,但在中国业内普遍推测华为的关联公司宇量昇可能是该企业。去年9月,《金融时报》曾报道中芯国际正在测试宇量昇制造的浸没式DUV,初步测试结果显示出积极的指标。 宇量昇50%的股份由上海市政府下属的风险投资公司持有,剩余50%则由中国半导体设备公司新凯来持有。新凯来的100%股份由深圳市政府下属的风险投资公司持有。由于新凯来的核心团队成员是华为的精密设备开发团队,因此中国业内普遍将新凯来视为华为的关联公司。新凯来正在开发EUV设备,但是否与宇量昇共同开发尚未公开。新凯来的EUV开发项目名称为“珠穆朗玛”。CXMT在HBM领域的追赶也在加速与此同时,27日上市的中国DRAM厂商CXMT在首日股价暴涨476%,成为中国股市市值最高的企业。CXMT通过此次上市预计将筹集最高666万亿人民币,且CXMT今年上半年的净利润预计为570亿人民币,因此CXMT将获得总计1236亿人民币的现金。这相当于约27万亿韩元,其中大部分预计将投资于AI用DRAM和HBM。CXMT被认为已经握住了追赶三星电子和SK海力士的机会。 目前,CXMT与SK海力士之间的技术差距约为4年。中国证券公司的分析师认为,凭借巨额的投资资金,加上中国政府的支持和中国AI企业的爆发性需求,CXMT的技术将会迅速提升。尤其是未来CXMT与SK海力士之间的技术差距可能缩小至2年。※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-07-29 01:19:00 -
中国成功实现DUV光刻机国产化,半导体行业迎来重大突破中国成功实现了半导体制造关键设备——深紫外(DUV)光刻机的国产化。继中国最大DRAM制造商CXMT(长鑫科技)成功上市后,中国半导体行业的好消息不断传来。这一成就对韩国半导体企业的股价产生了重大负面影响,28日,三星电子股价下跌了13.4%,SK海力士下跌了14.7%。 据美国IT专业媒体《信息时报》28日报道,中国半导体设备企业已开始生产自主研发的浸没式DUV设备,并计划今年交付5台给客户。报道指出,这些设备将供应给中芯国际、华虹半导体、CXMT等中国主要半导体企业。这是中国企业首次制造浸没式DUV设备。《信息时报》还表示,预计明年将交付20台。 美国制裁七年后DUV国产化成果显现 自2019年起,美国禁止向中国出口最先进的极紫外(EUV)光刻机,并从2023年起也禁止向中国出口浸没式DUV设备。中国自2019年起便致力于光刻机的国产化,经过七年努力,终于实现了DUV的国产化。 浸没式DUV光刻机能够通过一次曝光制造28纳米工艺的半导体。如果经过多次电路曝光的多重图案化工艺,则可以覆盖到7纳米工艺。然而,多重图案化工艺的良率较低,制造成本较高。 浸没式DUV光刻机由荷兰光刻机制造商ASML于2006年推出。中国企业制造的设备预计与ASML2008年的版本性能相似。根据计算,ASML与中国光刻机技术的差距约为18年。 EUV设备预计2030年将见成效 尽管中国在七年内实现DUV国产化被认为是相当大的成就,但这标志着中国在28纳米半导体工艺国产化方面的成功。此外,预计中国将以此为基础,加速EUV光刻机的开发。 中国政府将2026-2030年五年规划的核心目标设定为“技术自立”,其中最重要的任务无疑是EUV光刻机的开发。虽然中国政府并未具体提及开发时间,但当地半导体行业普遍预计,2030年将开始看到EUV设备开发的成果。 华为关联公司被指为DUV开发企业 中国DUV设备制造商的名称尚未公开,但在中国业内普遍推测,华为关联公司宇量昇可能是该企业。去年9月,《金融时报》曾报道,中芯国际正在测试宇量昇制造的浸没式DUV,初步测试结果显示出积极的指标。 宇量昇50%的股份由上海市政府旗下的风险投资公司持有,其余50%由中国半导体设备公司新凯来持有。新凯来的主要团队成员为华为精密设备开发团队的成员,因此业内普遍将新凯来视为华为的关联公司。新凯来正在开发EUV设备,但是否与宇量昇共同开发尚未公开。新凯来的EUV开发项目名为“珠穆朗玛”。 CXMT在HBM领域的追赶也在加速 另一方面,27日上市的中国DRAM企业CXMT在首日股价暴涨476%,成为中国股市市值第一的公司。CXMT通过此次上市预计筹集最多666亿人民币,且CXMT今年上半年的净利润预计为570亿人民币,因此CXMT将获得总计1236亿人民币的现金,这相当于约27万亿韩元,其中大部分预计将投资于AI用DRAM和HBM。CXMT被认为在追赶三星电子和SK海力士方面获得了重要的资金支持。 目前,CXMT与SK海力士的技术差距约为4年。中国证券公司分析师认为,凭借巨额投资资金的获得,加上中国政府的支持和中国AI企业的爆发性需求,CXMT的技术有望实现飞跃性发展。尤其是未来CXMT与SK海力士的技术差距可能缩小至2年。
2026-07-29 01:19:00 -
DUV国产化被视为不确定性,指数普遍下跌前一天上涨的中国股市在28日普遍下跌。中国成功实现半导体工艺核心设备DUV(深紫外线)光刻机的国产化消息反而成为了利空因素。 当天,上海综合指数下跌1.16%,收于3813.31点;深圳成分指数下跌4.52%,收于13509.68点;创业板指数下跌7.35%,收于3327.03点,均以较低点位收盘。 当天开盘前,美国IT媒体《信息》报道,中国一家半导体设备公司正在制造DUV光刻机,预计今年将出货5台,明年将出货20台。尽管中国成功实现DUV国产化的重大利好消息出现,但股市却未能避免以半导体股为主的下跌。集中上市的创业板和科创板均下跌超过6%。 中国的DUV国产化可能改变产业结构,对全球股市造成强烈冲击。光刻机制造商荷兰ASML股价下跌8%,三星电子和SK海力士也均下跌超过10%。 DUV国产化对中国半导体产业而言是重大利好,但由于此前市场对技术自给自足的期待,导致中国半导体板块上涨,因此市场短期内将其视为材料消失,导致了获利了结的抛售。 与此同时,市场分析认为,中国的DUV国产化可能导致全球半导体供应链的重组,这被视为市场不确定性加剧的信号。外资投资者因不确定性规避和风险回避,纷纷抛售中国半导体股票。记忆半导体设计公司兆易创新跌至跌停,普冉股份也下跌超过10%。随着中国半导体板块大幅下跌,科技股也随之走弱,中国股市当天记录了相对较大的跌幅。 当天,光刻机相关股票表现突出,波长光电、电科数字、奥普光电等均涨停。尽管中国半导体板块下跌,但光刻机相关股票却上涨。因中国成功实现DUV光刻机国产化的消息,光刻机供应链中的公司股价大幅上涨。 白酒板块也有所上涨。金种子酒涨停,皇台酒业涨幅显著。北京和上海地区的茅台直营店持续提高茅台售价的消息成为利好。大城市的直营店将500ml一瓶的售价定为1719元,高于茅台在线平台的售价1639元,显示出茅台的需求正在回升。 另一方面,中国人民银行当天公布的美元对人民币基准汇率为6.7928元,较前一日上涨0.0017元,人民币贬值0.03%。※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-07-29 01:11:00 -
中国成功实现DUV光刻机国产化,反映半导体行业崛起中国在半导体工艺核心设备——深紫外(DUV)光刻机的国产化方面取得了成功。继27日中国最大DRAM厂商CXMT成功上市后,中国半导体行业迎来了更多利好消息。 据美国IT专业媒体《信息》28日报道,中国的一家公司已开始生产自主开发的浸没式DUV设备,并计划今年交付5台给客户。报道指出,今年的生产设备将供应给中芯国际、华虹半导体、CXMT等中国主要半导体企业。这是中国首次制造浸没式DUV设备。《信息》还表示,预计明年将交付20台。 自2019年以来,美国已禁止向中国出口最先进的极紫外(EUV)光刻机,并从2023年起禁止向中国出口浸没式DUV设备。 浸没式DUV能够通过一次曝光(图案化)生产28纳米(nm)工艺的半导体。如果经过多次电路曝光的多重图案化工序,则可以覆盖到7纳米工艺。然而,多重图案化的良品率较低,制造成本较高。 浸没式DUV是荷兰光刻机制造商ASML于2006年推出的设备。中国制造的设备预计与ASML2008年版本的浸没式DUV性能相似。根据计算,ASML与中国光刻机技术的差距约为18年。 然而,中国实现DUV国产化被认为是一个重要成就。这标志着中国在28纳米半导体工艺的国产化方面已基本完成。此外,预计中国将在此基础上加快EUV光刻机的开发。 中国DUV设备制造商的名称尚未公开,但业内普遍推测与华为关联的宇量昇可能是该公司。去年9月,《金融时报》曾报道中芯国际正在测试宇量昇制造的浸没式DUV。 宇量昇50%的股份由上海市政府下属的风险投资公司持有,其余50%由中国半导体设备公司赛凯瑞持有。赛凯瑞的100%股份由深圳市政府下属的风险投资公司持有。由于赛凯瑞的核心团队成员来自华为的精密设备开发团队,因此业内普遍将赛凯瑞视为华为的关联公司。 与此同时,27日上市的中国DRAM公司CXMT在首日股价暴涨476%,成为中国股市市值最高的企业。中国证券行业和媒体普遍认为CXMT的上市是中国半导体产业的标志性事件。这不仅是单一企业的首次公开募股,更是投资者对中国半导体产业发展、中国AI供应链国产化和高科技自给自足的积极期待的体现。
2026-07-28 18:12:00
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中国DUV开发公司成立三年,成功实现国产化中国成功实现了浸没式DUV(深紫外线)光刻机的国产化,相关设备开发公司为成立于上海的爱晟纳(爱晟纳电子技术集团)。 据路透社29日援引匿名消息人士的报道,爱晟纳正在招募国内光刻机专家,致力于制造浸没式DUV光刻机。 爱晟纳成立于2023年8月,注册资本为70亿元人民币(约合1.5万亿韩元)。上海电气(SMEE)和上海市政府下属的上海国际信托各持有50%的股份,均为国有企业。路透社报道,爱晟纳吸纳了SMEE和宇量昇的光刻机开发团队。SMEE和宇量昇均为光刻机制造商,宇量昇被视为华为的关联公司,其母公司为半导体设备公司新凯来。 分析认为,中国在2023年成立爱晟纳并整合SMEE与宇量昇的开发团队,以加快国家层面的DUV设备开发进程。 此前,美国IT媒体《信息》在28日的报道中提到,中国的一家半导体设备公司正在制造浸没式DUV光刻机,预计今年将交付5台,明年将交付20台,但未透露该公司的名称。 如果中国成功制造浸没式DUV光刻机,这将被视为历史性的技术突破。新加坡管理大学的副教授傅芳剑在接受《联合早报》采访时表示:“这将成为中国克服美国技术压力的一个突破口。” 此外,总部位于新加坡的Advantage Research Consulting创始人张盼表示:“如果中国能够制造DUV光刻机,那么突破7纳米半导体工艺技术只是时间问题。如果中国加速光刻机技术的开发,将对美国主导的全球半导体生态系统构成实质性威胁。”
2026-07-29 18:18:00 -
中国成功实现DUV光刻机国产化,半导体行业迎来重大突破中国成功实现了半导体工艺核心设备——深紫外(DUV)光刻机的国产化。继前一天中国最大DRAM厂商CXMT(长鑫科技)成功上市后,中国半导体行业的好消息接连而至。这一成就对韩国半导体企业的股价造成了重大冲击,28日,三星电子股价下跌了13.4%,SK海力士则下跌了14.7%。 中国的半导体设备企业开始生产自主研发的浸没式DUV设备,预计今年将生产5台并交付给客户。美国IT专业媒体《信息时报》在28日报道称,生产的设备将供应给中芯国际、华虹半导体、长鑫科技等中国主要半导体企业。这是中国企业首次制造浸没式DUV设备。《信息时报》还指出,预计明年将交付20台设备。美国制裁7年后DUV国产化成果显现自2019年起,美国禁止向中国出口最先进的极紫外(EUV)光刻机,并从2023年开始禁止向中国出口浸没式DUV设备。中国自2019年起便致力于光刻机的国产化,经过7年的努力,终于实现了DUV的国产化。 浸没式DUV设备能够通过一次曝光工艺(图案化)制造28纳米(nm)工艺的半导体。如果经过多次电路曝光的多图案化工艺,则可以覆盖到7纳米工艺。然而,多图案化工艺的良品率较低,制造成本较高。 浸没式DUV设备由荷兰光刻机制造商ASML于2006年推出。中国制造的设备预计与ASML2008年版本的浸没式DUV性能相似。根据计算,ASML与中国光刻机技术的差距约为18年。EUV设备预计2030年将见成效尽管中国在7年内实现DUV国产化被认为是相当大的成就,但这标志着中国28纳米半导体工艺的国产化已完成。此外,预计中国将以此为基础,加快EUV光刻机的开发。 中国政府将2026年至2030年第十五个五年计划的核心目标设定为“技术自立”,其中最重要的任务无疑是EUV光刻机的开发。虽然中国政府并未具体提及开发时间,但当地半导体行业普遍认为,2030年开始EUV设备的开发成果将会显现。华为关联公司被指为DUV开发企业中国DUV设备制造商的名称尚未公开,但在中国业内普遍推测华为的关联公司宇量昇可能是该企业。去年9月,《金融时报》曾报道中芯国际正在测试宇量昇制造的浸没式DUV,初步测试结果显示出积极的指标。 宇量昇50%的股份由上海市政府下属的风险投资公司持有,剩余50%则由中国半导体设备公司新凯来持有。新凯来的100%股份由深圳市政府下属的风险投资公司持有。由于新凯来的核心团队成员是华为的精密设备开发团队,因此中国业内普遍将新凯来视为华为的关联公司。新凯来正在开发EUV设备,但是否与宇量昇共同开发尚未公开。新凯来的EUV开发项目名称为“珠穆朗玛”。CXMT在HBM领域的追赶也在加速与此同时,27日上市的中国DRAM厂商CXMT在首日股价暴涨476%,成为中国股市市值最高的企业。CXMT通过此次上市预计将筹集最高666万亿人民币,且CXMT今年上半年的净利润预计为570亿人民币,因此CXMT将获得总计1236亿人民币的现金。这相当于约27万亿韩元,其中大部分预计将投资于AI用DRAM和HBM。CXMT被认为已经握住了追赶三星电子和SK海力士的机会。 目前,CXMT与SK海力士之间的技术差距约为4年。中国证券公司的分析师认为,凭借巨额的投资资金,加上中国政府的支持和中国AI企业的爆发性需求,CXMT的技术将会迅速提升。尤其是未来CXMT与SK海力士之间的技术差距可能缩小至2年。※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
2026-07-29 01:19:00 -
中国成功实现DUV光刻机国产化,半导体行业迎来重大突破中国成功实现了半导体制造关键设备——深紫外(DUV)光刻机的国产化。继中国最大DRAM制造商CXMT(长鑫科技)成功上市后,中国半导体行业的好消息不断传来。这一成就对韩国半导体企业的股价产生了重大负面影响,28日,三星电子股价下跌了13.4%,SK海力士下跌了14.7%。 据美国IT专业媒体《信息时报》28日报道,中国半导体设备企业已开始生产自主研发的浸没式DUV设备,并计划今年交付5台给客户。报道指出,这些设备将供应给中芯国际、华虹半导体、CXMT等中国主要半导体企业。这是中国企业首次制造浸没式DUV设备。《信息时报》还表示,预计明年将交付20台。 美国制裁七年后DUV国产化成果显现 自2019年起,美国禁止向中国出口最先进的极紫外(EUV)光刻机,并从2023年起也禁止向中国出口浸没式DUV设备。中国自2019年起便致力于光刻机的国产化,经过七年努力,终于实现了DUV的国产化。 浸没式DUV光刻机能够通过一次曝光制造28纳米工艺的半导体。如果经过多次电路曝光的多重图案化工艺,则可以覆盖到7纳米工艺。然而,多重图案化工艺的良率较低,制造成本较高。 浸没式DUV光刻机由荷兰光刻机制造商ASML于2006年推出。中国企业制造的设备预计与ASML2008年的版本性能相似。根据计算,ASML与中国光刻机技术的差距约为18年。 EUV设备预计2030年将见成效 尽管中国在七年内实现DUV国产化被认为是相当大的成就,但这标志着中国在28纳米半导体工艺国产化方面的成功。此外,预计中国将以此为基础,加速EUV光刻机的开发。 中国政府将2026-2030年五年规划的核心目标设定为“技术自立”,其中最重要的任务无疑是EUV光刻机的开发。虽然中国政府并未具体提及开发时间,但当地半导体行业普遍预计,2030年将开始看到EUV设备开发的成果。 华为关联公司被指为DUV开发企业 中国DUV设备制造商的名称尚未公开,但在中国业内普遍推测,华为关联公司宇量昇可能是该企业。去年9月,《金融时报》曾报道,中芯国际正在测试宇量昇制造的浸没式DUV,初步测试结果显示出积极的指标。 宇量昇50%的股份由上海市政府旗下的风险投资公司持有,其余50%由中国半导体设备公司新凯来持有。新凯来的主要团队成员为华为精密设备开发团队的成员,因此业内普遍将新凯来视为华为的关联公司。新凯来正在开发EUV设备,但是否与宇量昇共同开发尚未公开。新凯来的EUV开发项目名为“珠穆朗玛”。 CXMT在HBM领域的追赶也在加速 另一方面,27日上市的中国DRAM企业CXMT在首日股价暴涨476%,成为中国股市市值第一的公司。CXMT通过此次上市预计筹集最多666亿人民币,且CXMT今年上半年的净利润预计为570亿人民币,因此CXMT将获得总计1236亿人民币的现金,这相当于约27万亿韩元,其中大部分预计将投资于AI用DRAM和HBM。CXMT被认为在追赶三星电子和SK海力士方面获得了重要的资金支持。 目前,CXMT与SK海力士的技术差距约为4年。中国证券公司分析师认为,凭借巨额投资资金的获得,加上中国政府的支持和中国AI企业的爆发性需求,CXMT的技术有望实现飞跃性发展。尤其是未来CXMT与SK海力士的技术差距可能缩小至2年。
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DUV国产化被视为不确定性,指数普遍下跌前一天上涨的中国股市在28日普遍下跌。中国成功实现半导体工艺核心设备DUV(深紫外线)光刻机的国产化消息反而成为了利空因素。 当天,上海综合指数下跌1.16%,收于3813.31点;深圳成分指数下跌4.52%,收于13509.68点;创业板指数下跌7.35%,收于3327.03点,均以较低点位收盘。 当天开盘前,美国IT媒体《信息》报道,中国一家半导体设备公司正在制造DUV光刻机,预计今年将出货5台,明年将出货20台。尽管中国成功实现DUV国产化的重大利好消息出现,但股市却未能避免以半导体股为主的下跌。集中上市的创业板和科创板均下跌超过6%。 中国的DUV国产化可能改变产业结构,对全球股市造成强烈冲击。光刻机制造商荷兰ASML股价下跌8%,三星电子和SK海力士也均下跌超过10%。 DUV国产化对中国半导体产业而言是重大利好,但由于此前市场对技术自给自足的期待,导致中国半导体板块上涨,因此市场短期内将其视为材料消失,导致了获利了结的抛售。 与此同时,市场分析认为,中国的DUV国产化可能导致全球半导体供应链的重组,这被视为市场不确定性加剧的信号。外资投资者因不确定性规避和风险回避,纷纷抛售中国半导体股票。记忆半导体设计公司兆易创新跌至跌停,普冉股份也下跌超过10%。随着中国半导体板块大幅下跌,科技股也随之走弱,中国股市当天记录了相对较大的跌幅。 当天,光刻机相关股票表现突出,波长光电、电科数字、奥普光电等均涨停。尽管中国半导体板块下跌,但光刻机相关股票却上涨。因中国成功实现DUV光刻机国产化的消息,光刻机供应链中的公司股价大幅上涨。 白酒板块也有所上涨。金种子酒涨停,皇台酒业涨幅显著。北京和上海地区的茅台直营店持续提高茅台售价的消息成为利好。大城市的直营店将500ml一瓶的售价定为1719元,高于茅台在线平台的售价1639元,显示出茅台的需求正在回升。 另一方面,中国人民银行当天公布的美元对人民币基准汇率为6.7928元,较前一日上涨0.0017元,人民币贬值0.03%。※ 本报道经人工智能(AI)系统翻译与编辑。
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中国成功实现DUV光刻机国产化,反映半导体行业崛起中国在半导体工艺核心设备——深紫外(DUV)光刻机的国产化方面取得了成功。继27日中国最大DRAM厂商CXMT成功上市后,中国半导体行业迎来了更多利好消息。 据美国IT专业媒体《信息》28日报道,中国的一家公司已开始生产自主开发的浸没式DUV设备,并计划今年交付5台给客户。报道指出,今年的生产设备将供应给中芯国际、华虹半导体、CXMT等中国主要半导体企业。这是中国首次制造浸没式DUV设备。《信息》还表示,预计明年将交付20台。 自2019年以来,美国已禁止向中国出口最先进的极紫外(EUV)光刻机,并从2023年起禁止向中国出口浸没式DUV设备。 浸没式DUV能够通过一次曝光(图案化)生产28纳米(nm)工艺的半导体。如果经过多次电路曝光的多重图案化工序,则可以覆盖到7纳米工艺。然而,多重图案化的良品率较低,制造成本较高。 浸没式DUV是荷兰光刻机制造商ASML于2006年推出的设备。中国制造的设备预计与ASML2008年版本的浸没式DUV性能相似。根据计算,ASML与中国光刻机技术的差距约为18年。 然而,中国实现DUV国产化被认为是一个重要成就。这标志着中国在28纳米半导体工艺的国产化方面已基本完成。此外,预计中国将在此基础上加快EUV光刻机的开发。 中国DUV设备制造商的名称尚未公开,但业内普遍推测与华为关联的宇量昇可能是该公司。去年9月,《金融时报》曾报道中芯国际正在测试宇量昇制造的浸没式DUV。 宇量昇50%的股份由上海市政府下属的风险投资公司持有,其余50%由中国半导体设备公司赛凯瑞持有。赛凯瑞的100%股份由深圳市政府下属的风险投资公司持有。由于赛凯瑞的核心团队成员来自华为的精密设备开发团队,因此业内普遍将赛凯瑞视为华为的关联公司。 与此同时,27日上市的中国DRAM公司CXMT在首日股价暴涨476%,成为中国股市市值最高的企业。中国证券行业和媒体普遍认为CXMT的上市是中国半导体产业的标志性事件。这不仅是单一企业的首次公开募股,更是投资者对中国半导体产业发展、中国AI供应链国产化和高科技自给自足的积极期待的体现。
2026-07-28 18:12:00